专利创新(xīn)点挖掘需要注意哪些事项？

专利创新(xīn)点挖掘需要注意哪些事项？企业特别是中小(xiǎo)企业进行专利创新(xīn)点挖掘时存在许多(duō)误區(qū)。

其一，认為(wèi)一件产品只能(néng)有(yǒu)一项专利。其实即便简单的产品也不是轻易就可(kě)以制造出来的，每件产品都包含原材料、零部件、生产组装方法、测试方法、用(yòng)途、使用(yòng)方法等诸多(duō)因素，这些因素都是专利创新(xīn)点挖掘的方向。

其二，认為(wèi)只有(yǒu)自动控制、纳米材料等高精尖的高新(xīn)技术产品才能(néng)产生专利，却不知这些技术因為(wèi)比较成熟而不易创新(xīn)，一些不起眼、不為(wèi)人知的小(xiǎo)窍门、小(xiǎo)改革反而符合专利的三性，而具有(yǒu)申请专利的资质。

其三，认為(wèi)失败的研究项目没有(yǒu)创新(xīn)点。其实任何失败的研究项目都经过了研发人员的创造劳动，其中的一些技术方案虽然没有(yǒu)实现产业化或达到研究的目的，但也解决了一些技术难题，自然也有(yǒu)了进行专利创新(xīn)点的挖掘价值。

 

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